DAS Environmental Expert公司為半導體行業創造新的價值：
新型SALIX系統能減少占地面積并提高效率，從而降低清除成本

中國上海，2013年7月15日訊：位于德國德累斯頓的DAS Environmental Expert公司是半導體行業廢氣處理領域的全球領先企業，該企業研發出名為SALIX的新型系統。SALIX是一種有害氣體清除系統，主要針對濕式蝕刻清洗臺應用。DAS Environmental Expert公司廢氣處理業務部門總監Guy Davies博士表示：“我們為了應對客戶的需求而開發這一系統。早前，有一家鑄造行業的大型企業希望尋求一種解決方案來處理濕式蝕刻清洗臺產生的廢氣。2012年12月，DAS Environmental Expert公司安裝了首套系統，并從今年一月起一直運行至今。通過對排放進行測量，結果顯示其系統完全能夠滿足客戶的需求，廢氣中未發現任何需要清除的有害物質。”

半導體行業同樣面臨著持續的競爭成本壓力
由于該機構十分注重以負責的態度使用資源，另一方面芯片制造商更為看重效率，因此為濕式蝕刻清洗臺配備使用端清除工藝是兩全其美的解決方案。Davies表示：“一部濕式蝕刻清洗臺至多有12個腔室。目前，每個腔室的廢氣仍需借助多個廢氣系統進行清除，其需要利用復雜的轉換模塊以免管道內部出現沉積。但SALIX的出現能讓我們從此不再需要這些體積龐大的裝置。您只需為每部濕式蝕刻清洗臺配備一套SALIX系統，以及一根用于輸送干凈廢氣的管道。此外，SALIX相比之前的技術占地面積有了大幅度的降低。”

該端清除技術適用于單晶圓濕式蝕刻清洗臺，迄今，尚未有人考慮過為該系統配備使用端清除設備，DAS Environmental Expert公司是目前唯一使用該技術的供應商。Davis對此表示：“這一情況已經有所改變。我們目前已收到多家美國客戶的垂詢。業界對于SALIX的興趣日漸濃厚，這是因為節省資源目前的意義遠高過其成本”。

SALIX通過減少占地面積和提高效率同樣可以降低清除成本
在濕式蝕刻清洗臺上生產IC芯片時，晶圓按照特定的加工步驟并使用不同的溶液依次進行清洗，對此Davis解釋說：“具體包括純水、酸性和堿性化學溶劑，以及揮發性溶劑。隨后這些晶圓會被烘干，確保沒有殘留物質。”

Davies說道：“清洗200毫米的晶圓時，整個片匣需要浸入溶液。芯片制造商目前依靠所謂的單晶圓清洗工藝來清洗300毫米晶圓。該工藝會將單片晶圓浸入清洗溶液，并且在其中快速旋轉。得益于這種旋轉，清洗劑可以均勻地分布到晶圓表面，最終從晶圓邊緣甩出，并通過該系統內部的擋板收集到一起。”

從濕式蝕刻清洗臺吸出的廢氣含有一定比例的清洗劑——不論是以氣相形式，還是以液滴形式。以前，這些清洗劑均依靠極為復雜的提取系統收集。Davies說：“需要有幾個這樣的系統來分離并提取含有酸、堿以及溶劑的廢氣，因為只有分離吸取，才能有效防止管道出現細粒堆積和冷凝現象。”

SALIX利用化學和物理吸附的兩階段洗滌流程，在其源頭從氣流中直接清除有害物質。借助分離式出風口，有害氣體從濕式蝕刻清洗臺的加工腔室進入預洗滌器，后者通過使用噴嘴對氣體進行預清潔。從這里開始，廢氣進入首個洗滌階段，隨后才是第二階段，并采用完全不同的洗滌液。由于沒有任何技術或環境威脅，剩下的干凈空氣可以直接排入空氣中。

借助使用端清除技術，SALIX能夠有效防止其排氣管發生堵塞。該系統不需要任何稀釋空氣，因此精心制備的干凈空氣會依然留在凈室之中，以進一步降低成本。

公司簡介
DAS Environmental Expert公司是一家環保科技公司，總部設于德國德累斯頓。DAS成立于1991年，是全球領先的工藝氣體處理技術和設備解決方案供應商。DAS的技術已被廣泛應用于半導體、TFT-LCD、電子工業以及太陽能工業的眾多國際領先企業中。公司另設有一個業務部門，專門為工業和公用廢水開發處理和系統解決方案。DAS Environmental Expert業務遍布全球，目前擁有230名員工，近年來年均銷售額達2,100萬歐元。

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